氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空熔煉爐的維護和保養方法是哪些呢 　　真空熔煉爐是在抽真空爐體中用電弧直接加熱熔煉金屬的電爐。爐內氣體稀薄，主要靠被熔金屬的蒸氣發生電弧，為使電弧穩定，一般供直流電。按照熔煉特點，分為金屬重熔爐和澆鑄爐。按照熔煉過程中電極是否消耗(熔化)，分為自耗爐和非自耗爐，工業上應用的大多數是自耗爐。真空電弧爐用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮。 　　電弧電熱可以認為是弧阻電熱。電弧(弧阻)穩定是爐子正常生產的必要條件。交流電弧爐通常采用工頻電，為使電弧穩定，真空熔煉爐爐子供電電路中要有適當的感抗，但是存在感抗會降低功率因數和電效率。降低電流頻率是發展交流電弧爐的途徑。弧阻阻值相當小，為獲得必要的熱量，爐子需要相當大的工作電流，因此爐子短網的電阻要盡量小，以免電路損耗過大。那要如何做好維護和保養呢？方法有二，如下： 　　1、按照PLC程序抽低真空：緊閉真空熔煉爐所有的真空閥門，啟動機械泵，待其運行正常后(大約1-2min)，打開通向爐體的低真空閥即上碟閥，預先對爐體抽低真空; 　　2、按照PLC程序抽高真空：打開下碟閥，對擴散泵進行抽氣，當真空度達到15Pa以下后，真空熔煉爐系統自動開啟擴散泵進行預熱，一般經過45min左右擴散泵開始其作用，就可以關閉上碟閥，同時開啟主阻擋閥待真空度達到1.33×10Pa以上，才可以開啟加熱按鈕對樣品進行加熱。