真空甩帶爐組成有哪些部件 　　八佳電氣生產(chǎn)的真空甩帶爐采用的是臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小，采用高頻電源加熱，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉澆鑄處理。雖然，看起來并不大，但其結(jié)構(gòu)也是相對復(fù)雜的，主要有真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、壓鑄裝置、模具預(yù)熱系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)及水冷卻系統(tǒng)組成。 　　1、真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成;爐體由不銹鋼法蘭和內(nèi)外筒體組焊而成，內(nèi)壁鏡面拋光，爐體上開設(shè)有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉(zhuǎn)電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預(yù)熱電源電極引入接口;真空甩帶爐的爐蓋由整體實心加工而成，上面開設(shè)有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內(nèi)的各種實驗情況;爐底也是由整體實心加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。 　　2、熔煉裝置：由超音頻電源、水冷電纜、旋轉(zhuǎn)電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現(xiàn)不同容量。真空甩帶爐的高溫溫度可加熱***1700℃。(容量按照50g,200g,500g,1000g來配)，熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內(nèi)。 　　3、噴鑄裝置：由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現(xiàn)小容量溶液的噴帶和噴鑄。(噴鑄配石英管，容量50g) 　　4、甩帶裝置：真空甩帶爐的甩帶裝置由噴鑄裝置、高速調(diào)速電機、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調(diào)節(jié)電機速度，實現(xiàn)不同銅棍線速度。 　　5、壓鑄裝置：由特殊加壓裝置、壓架、底座、壓頭和母模等組成，當(dāng)溶液澆鑄或者噴鑄到母模內(nèi)，啟動加壓裝置對工件加壓，提高其致密性。壓鑄底部壓頭有定位槽，保證上下壓頭同心度;底部壓頭可調(diào)節(jié)高度;整套壓力架支撐在地上。相對人性化的設(shè)計是在爐體底部有防漏盤，防止熔液損壞真空腔體。 　　6、電氣控制系統(tǒng)：各種電氣元器件采用國際知名品牌，按照行業(yè)標準制作而成。面板采用模擬屏，可直觀控制設(shè)備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。 　　7、水冷卻系統(tǒng)：真空熔煉爐的冷卻系統(tǒng)由水冷機、各種閥門和水管等組成，帶有電接點水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。

　　高溫石墨化爐用途是什么　　石墨化提純爐的高溫設(shè)備，又稱作高溫石墨化爐，需要石墨化處理的材料還包括碳納米管、核石墨、天然石墨和人造石墨等。石墨化是指高溫下碳原子由雜亂不規(guī)則排列轉(zhuǎn)變?yōu)橐?guī)則排列的六方平面網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，即石墨微晶結(jié)構(gòu)，其目的是獲得石墨高導(dǎo)電、高導(dǎo)熱、耐腐蝕、耐摩擦等的性能。　　石墨化溫度可高達3100℃，溫度越高，石墨化微晶結(jié)構(gòu)發(fā)育越完善，在如此高的溫度下，其他低熔點的原子均以氣體形式排出，從而實現(xiàn)材料的提純。　　高溫石墨化爐用途：　　（1）可用于石墨粉料的連續(xù)式高溫石墨化提純，并可實現(xiàn)高溫法與化學(xué)法相結(jié)合的提純處理。　　（2）可實現(xiàn)高溫下連續(xù)式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期。　　（3）高溫石墨化爐采用感應(yīng)加熱，溫度可達2850℃以上。　　（4）采用高溫法和化學(xué)法相結(jié)合的提純方式，可滿足高純度處理要求。　　（5）采用效率高的過濾系統(tǒng)，能有效捕集提純過程中產(chǎn)生的粉塵、腐蝕性氣體等。　　（6）高溫石墨化爐可實現(xiàn)高溫下連續(xù)式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產(chǎn)周期。