氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)是什么　　氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料，也可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理，或以三氯甲硅烷（MTS）為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。　　裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設(shè)備特點(diǎn)如下：　　1.多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好；　　2.采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)范圍小；　　3.氣相沉積爐設(shè)備自動(dòng)化高，關(guān)鍵執(zhí)行電氣件采用進(jìn)口；操作直觀、簡(jiǎn)便，觸摸屏經(jīng)過開發(fā)，可動(dòng)態(tài)顯示爐子運(yùn)行狀況并具有自我診斷功能，程序段可直接輸入。　　4.采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)。

　　總結(jié)真空燒結(jié)爐十一點(diǎn)熱處理技巧 　　隨著工業(yè)化的進(jìn)程和發(fā)展，真空爐在模具生產(chǎn)中發(fā)揮著不可替代的作用，主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。 真空爐的真空熱處理幾乎可實(shí)現(xiàn)全部熱處理工藝，如淬火、退火、回火、滲碳、氮化，在淬火工藝中可實(shí)現(xiàn)氣淬、油淬、硝鹽淬火、水淬等，還可以進(jìn)行真空釬焊、燒結(jié)、表面處理等。真空爐熱效率高，可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。 　　一般來(lái)說(shuō)，被處理的工件在爐內(nèi)加熱緩慢，內(nèi)熱溫差較小，熱應(yīng)力小，因而變形小。產(chǎn)品合格率高。可降低成本，有除氣作用，從而提高了工作的機(jī)械性能和使用壽命。工作環(huán)境好，操作安全，沒有污染和公害。被處理的工件沒有氫脆危險(xiǎn)，對(duì)鈦材和難熔金屬殼防止表面氫脆，真空熱處理工藝的穩(wěn)定性和重復(fù)性好。這一系列的優(yōu)點(diǎn)，開發(fā)真空熱處理設(shè)備和工藝被越來(lái)越重視和應(yīng)用越來(lái)越廣。 　　真空熱處理即真空技術(shù)與熱處理兩個(gè)***相結(jié)合的綜合技術(shù)，是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的。我國(guó)將真空劃分為低、中、高和超高真空。 　　真空爐和中頻電爐在熱加工領(lǐng)域有著很好的發(fā)展前景，用于：透熱、軋制、鍛造、彎管、熱處理(淬火)、焊接等工藝的感應(yīng)加熱。那么真空爐和中頻電爐的熱處理技巧是什么呢? 　　1.真空爐處理鈦合金時(shí)，不宜用氮?dú)庾鳛槔鋮s氣體，因?yàn)殁伜偷诟邷叵路磻?yīng)，形成金黃色的氮化鈦。 　　2.真空爐活動(dòng)連接部分全部采用O型橡膠圈密封連接，此部分均通水冷卻。 　　3.工件在真空狀態(tài)下淬火，應(yīng)使用真空淬火油，此油具有較低的飽和蒸氣壓。 　　4.真空爐的保養(yǎng)應(yīng)在真空或充純氮狀態(tài)下，避免平時(shí)不用時(shí)吸氣，吸潮。 　　5.國(guó)內(nèi)真空爐的壓升率應(yīng)不大于1.33Pa/h，國(guó)外某些企業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)為0.67Pa/h 　　6.真空加熱以輻射為主，工件在爐內(nèi)應(yīng)該保持間距。 　　7.升溫過程中，工件及爐內(nèi)材料會(huì)放氣，使真空度下降。 　　8.真空回火、真空退火、真空固溶處理及真空時(shí)效的加熱溫度一般與常規(guī)處理時(shí)加熱溫度相同。 　　9.真空回火爐應(yīng)該具有快冷裝置。冷卻水的壓力應(yīng)該大于0.2Mpa，流量應(yīng)可調(diào)。 　　10.冷卻氣體：鋼一般采用百分之99.995純度的氮?dú)猓邷睾辖鸩捎冒俜种?9.999的氮?dú)饣驓鍤猓伜辖鸩捎冒俜种?9.995的氬氣。 　　11.升溫：放入工件后，一般先預(yù)抽至6.67Pa時(shí)方可升溫加熱。 　　看完本文，相信您對(duì)其熱處理技巧有一定的認(rèn)識(shí)了，如有產(chǎn)品方面的需求，請(qǐng)立即聯(lián)系我們哦!