熔鹽電解爐電解煉鎂 　　熔鹽電解爐是一種利用電化學原理，采用熔鹽電解法生產高純金屬的裝置。把金屬氯化物作為原料裝入本熔鹽電解爐中，即可生產出對應金屬氯化物的高純金屬。今天就講下熔鹽電解法煉鎂。 　　熔鹽電解爐電解煉鎂是指含鎂物料經氯化鎂制取、氯化鎂熔鹽電解產出金屬鎂的鎂冶煉方法。熔鹽電解法煉鎂成本低，原料來源廣泛，是當今生產金屬鎂的主要方法，其生產的金屬鎂約占鎂總產量的3/4。 　　自熔鹽電解爐電解法煉鎂工業化以來，鎂電解生產技術有了很大發展，主要表現在改進電解槽結構、增大電流強度(由300A增大至10萬A以上，個別的如挪威則增至29-30萬A)、降低電耗(由35-40kW·h/kg降為12.8-16.5kW·h/kg)和利用多種資源制取氯化鎂的工藝改進及開發應用新技術等方面。 　　熔鹽電解爐電解煉鎂使用的原料為氯化鎂，它是以海水、鹽湖鹵水、光鹵石、菱鎂礦和海水、白云石制取的氧化鎂為原料，經脫水或氯化制得的。70年代以來，在制取氯化鎂的工藝和裝備等方面有了很大改進，技術經濟指標也不斷在提高。特別是20世紀70年代末出現新的氯化鎂制取方法，如挪威的鹵水氯化氫法徹底脫水，以及英國礦物處理特許有限公司(MPLC)以菱鎂礦為原料，一氧化碳為還原劑經氯化制取無水氯化鎂的新方法，將進一步推動熔鹽電解法煉鎂工業的發展。

　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。